點(diǎn)擊圖片查看原圖本設(shè)備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機(jī)的使用特性研發(fā)的一種精密光刻機(jī)，它 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
二、 主要性能指標(biāo)
1. 有三種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。對版的厚度無特殊要求（1～4mm皆可）。
2. 設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”三個，分別適用于4"，3"，2"片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片，只要堵塞相應(yīng)的小孔，同樣能真空吸咐。
3. 照明：
光源：采用GCQ200Z型超高壓水銀直流汞燈。
照明范圍：≤ф117mm
不均勻性：ф100mm內(nèi)±5%
可使用的波長：g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求，可增加I線濾光片。
成象面照明：光照度10～15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時,照明度調(diào)在10mw/cm2)。
4. 采用進(jìn)口時間繼電器（該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè)）控制氣動快門，動作準(zhǔn)確可靠。
5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī)，但可實(shí)現(xiàn)：
a. 硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。
b. 軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。
c. 微力接觸曝光：小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。
6. 分辯率估計：如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定，環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制，采用進(jìn)口正性光刻膠，且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話，硬接觸曝光的小分辨度可達(dá)2μm以上
7.對準(zhǔn)：觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上
a. 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡（也可為1.6X～10X）。
b.CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為：1/3，（6mm）;
c.采用19"液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍；
d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（倍數(shù)），4.5×57≈256倍（倍數(shù)）或（91倍～570倍）。
1. 對準(zhǔn)臺：（采用片動，版不動方式）
X、Y調(diào)整：±5mm。
2. θ調(diào)整：轉(zhuǎn)角≤5°
對準(zhǔn)間隙（分離間隙）0～5mm任意可調(diào)。
整個對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動。
“接觸、分離”20μm情況下，片相對于版的“漂移量”，可調(diào)到≤±0.5μm。
8.設(shè)備所需能源：
主機(jī)電源： 220V±10% 50HZ
潔凈空氣≥0.4MPα。
真空：-0.07～－0.08MPα。
9.尺寸和重量：
尺寸：機(jī)體720 mm（長）×720 mm（寬）×882mm（高）。
重量：≤100Kg。
機(jī)體放在專用工作臺上。
工作臺:1100 mm（長）×750 mm（寬）×645 mm（高）。
高度可調(diào)范圍0～30mm。
重量50Kg（工作臺后側(cè)裝有電氣部分）。
總重量≤200Kg
10.G-25XA型光刻機(jī)的組成
(1)主機(jī)
a. 主機(jī)（含機(jī)體和工作臺）
b. 對準(zhǔn)用單筒顯微鏡
c. 多點(diǎn)光源曝光頭
（2）附件
a、主機(jī)附件：
3"□型掩版夾盤
4"□型掩版夾盤（出廠時安裝到機(jī)器上）
5"□型掩版夾盤。
b、用于2"基片的真空夾持承片臺。
用于3"基片的真空夾持承片臺（出廠時安裝到機(jī)器上）
用于4"基片的真空夾持承片臺.（若需特殊的基片承片臺，訂貨時用戶提出）
C、顯微鏡組成：
單筒顯微鏡二個
兩個CCD
