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常見的晶圓背冷方式有哪些?
發布時間:2025-01-16        瀏覽次數:7        返回列表
 溫度管理是半導體制造中的一個關鍵因素。一個微小的溫度變化就可能導致晶圓工藝參數的巨大偏差,進一步影響芯片的性能。晶圓背冷技術作為一種有效的溫度管理手段,不僅保證了晶圓溫度的均勻性,還增強了晶圓處理過程中的穩定性。
在一些蝕刻、沉積或者離子注入過程中,晶圓可能產生大量的熱量。如果不加以適當控制,這些熱量可能會引起晶圓溫度的不均勻,從而影響到芯片的一致性。這個時候就需要將晶圓冷卻降溫,將晶圓溫度維持在設定的溫度。因此會選擇背冷的方式。背冷是通過晶圓的背面,也就是其非工作面,來進行冷卻的。
為什么是背冷,而不是正面冷卻?因為晶圓的正面是工作面,如果正面冷卻會干擾工藝的進行。而通過背冷,首先不會干擾到工藝的正常進行,而且將冷卻系統集成到吸盤上,可供選擇的冷卻方式更多,冷取的效率更高,對工藝的影響小。
晶圓背冷的方式有哪些?
氣體背冷:通過在晶圓的背面噴射冷卻氣體,氣體與晶圓背面接觸,吸收晶圓多余的熱量,然后將熱量傳遞到機臺冷卻系統以降溫。通過調節氣體的壓力和流量,可以準確地控制晶圓的溫度。在晶圓背冷方面,氦氣是常見的背冷氣體。氦氣的熱導率非常高,遠高于大多數氣體,包括氮氣等。這使得氦氣能夠迅速并有效地從晶圓中傳遞熱量,確保有效的冷卻。氦氣不與晶圓或機器部件發生化學反應。這一點至關重要,因為任何化學反應都可能導致晶圓表面的缺陷或污染。
液體背冷:液體背冷通過流動的液體冷卻劑直接或間接與晶圓背面接觸,將晶圓產生的熱量迅速傳遞到冷卻劑中。通過循環冷卻系統,液體被送到冷卻器中進行冷卻,然后再流入晶圓背面進行冷卻,形成一個閉合的冷卻循環。液體背冷比氣體背冷具有更高的冷卻效率,但是液體背冷系統相對復雜,成本更高。
液體冷卻劑應具備良好的熱傳導性能、化學穩定性等,通常是比熱容較大的中性液體。一般為:水、水和乙二醇混合物、有機冷卻液等。
水是常用的液體冷卻劑之一,因為它具有優異的熱傳導性能并且成本低廉。但是,水可能會與某些材料發生化學反應,所以它可能需要添加緩蝕劑等。
水和乙二醇混合物常用于需要低溫冷卻的應用。乙二醇也可以降低水的腐蝕性。
有機冷卻液如油基冷卻液,具有良好的熱傳遞特性并且化學穩定。它們通常用于不與晶圓直接接觸的冷卻系統。
選擇液體冷卻還是氣冷要依賴于許多因素,一般要考慮冷卻需求,成本等因素。
 
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