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本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機，它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。
二、 主要性能指標
1. 有三種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。對版的厚度無特殊要求（1～4mm皆可）。
2. 設有相對應的真空吸附基片的“承片臺”三個，分別適用于4"，3"，2"片。對于非標準片或碎片，只要堵塞相應的小孔，同樣能真空吸咐。
3. 照明：
光源：采用GCQ200Z型超高壓水銀直流汞燈。
照明范圍：≤ф117mm
不均勻性：ф100mm內±5%
可使用的波長：g線、h線、I線的組合。根據用戶要求，可增加I線濾光片。
成象面照明：光照度10～15毫瓦/厘米2,任意可調(出廠時,照明度調在10mw/cm2)。
4. 采用進口時間繼電器（該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預設）控制氣動快門，動作準確可靠。
5. 該機為接觸式曝光機，但可實現：
a. 硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。
b. 軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。
c. 微力接觸曝光：小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。
6. 分辯率估計：如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規定，環境、溫度、濕度、塵埃得到嚴格控制，采用進口正性光刻膠，且勻膠厚度得到嚴格控制。加之前后工藝先進的話，硬接觸曝光的小分辨度可達2μm以上
7.對準：觀察系統為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上
a. 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續變倍顯微鏡（也可為1.6X～10X）。
b.CCD攝像機靶面對角線尺寸為：1/3，（6mm）;
c.采用19"液晶監視器，其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；
d.觀察系統放大倍數為：0.7×57≈40倍（倍數），4.5×57≈256倍（倍數）或（91倍～570倍）。
1. 對準臺：（采用片動，版不動方式）
X、Y調整：±5mm。
2. θ調整：轉角≤5°
對準間隙（分離間隙）0～5mm任意可調。
整個對準臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運動。
“接觸、分離”20μm情況下，片相對于版的“漂移量”，可調到≤±0.5μm。
8.設備所需能源：
主機電源： 220V±10% 50HZ
潔凈空氣≥0.4MPα。
真空：-0.07～－0.08MPα。
9.尺寸和重量：
尺寸：機體720 mm（長）×720 mm（寬）×882mm（高）。
重量：≤100Kg。
機體放在專用工作臺上。
工作臺:1100 mm（長）×750 mm（寬）×645 mm（高）。
高度可調范圍0～30mm。
重量50Kg（工作臺后側裝有電氣部分）。
總重量≤200Kg
10.G-25XA型光刻機的組成
(1)主機
a. 主機（含機體和工作臺）
b. 對準用單筒顯微鏡
c. 多點光源曝光頭
（2）附件
a、主機附件：
3"□型掩版夾盤
4"□型掩版夾盤（出廠時安裝到機器上）
5"□型掩版夾盤。
b、用于2"基片的真空夾持承片臺。
用于3"基片的真空夾持承片臺（出廠時安裝到機器上）
用于4"基片的真空夾持承片臺.（若需特殊的基片承片臺，訂貨時用戶提出）
C、顯微鏡組成：
單筒顯微鏡二個
兩個CCD
